המפסק תאים קוליממיר אנרגיה חשמלית לאנרגיית קול באמצעות מתמר. אנרגיה זו משתנה לבועות קטנות וצפופות דרך המדיום הנוזלי. בועות קטנות אלו מתפוצצות במהירות, ומייצרות אנרגיה, אשר ממלאת את תפקידה בפירוק תאים וחומרים אחרים.

מגרסה תאים אולטרסאונדיש לו את הפונקציות של שבירת רקמות, חיידקים, וירוסים, נבגים ומבני תאים אחרים, הומוגניזציה, אמולסיה, ערבוב, סילוק גזים, התפרקות ופיזור, שטיפה ומיצוי, האצת תגובה וכו', ולכן הוא נמצא בשימוש נרחב במחקר ביולוגי, רפואי, כימי, תרופות, מזון, קוסמטיקה, הגנת הסביבה ומחקר מעבדה אחר וייצור ארגוני.

שיטות הניקוי העיקריות של מגרסה קולית הן כדלקמן:

1. ניקוי על בסיס מים למחצה.בשנים האחרונות, התפתח והתבגר בהדרגה תהליך חדש, אשר השתפר על בסיס ניקוי ממס מסורתי. הוא יכול למנוע ביעילות חלק מחולשותיו של הממס. הוא אינו רעיל, בעל ריח קל, וניתן לפלוט נוזלי פסולת למערכת טיהור השפכים; פחות התקני תמיכה בציוד; חיי השירות ארוכים יותר מזה של הממס; עלות התפעול נמוכה יותר מזו של הממס. אחד היתרונות הבולטים של חומר ניקוי על בסיס מים למחצה הוא שיש לו אפקט ניקוי טוב על מזהמים אנאורגניים כמו אבקת טחינה, מה שמקל מאוד על לחץ הניקוי של חומר הניקוי על בסיס מים ביחידות הבאות, מאריך את חיי השירות של חומר הניקוי על בסיס מים, מפחית את כמות חומר הניקוי על בסיס מים ומפחית את עלויות התפעול.

2. ניקוי בממסים.בהשוואה לשיטה המסורתית, יש לה יתרונות של מהירות ניקוי מהירה ויעילות גבוהה, והממס עצמו ניתן לזיקוק ולמחזור רציף; עם זאת, החסרונות ברורים גם כן. מכיוון שסביבת הייצור של זכוכית אופטית דורשת טמפרטורה ולחות קבועים, שכולם בסדנאות סגורות, לריח הממס תהיה השפעה מסוימת על סביבת העבודה, במיוחד בעת שימוש בציוד ניקוי חצי אוטומטי שאינו סגור.

3. יש לנקות לפני הציפוי.המזהמים העיקריים שיש לנקות לפני הציפוי הם שמן ליבה, טביעות אצבעות, אבק וכו'. מכיוון שתהליך הציפוי דורש ניקיון עדשות קפדני ביותר, בחירת חומר הניקוי חשובה מאוד. תוך התחשבות ביכולת הניקוי של חומר ניקוי מסוים, עלינו לקחת בחשבון גם את הקורוזיביות שלו ובעיות אחרות.

4. ניקוי לאחר הציפוי.באופן כללי, זה כולל ניקוי לפני דיו, ניקוי לפני חיבורים וניקוי לפני הרכבה, ביניהם, ניקוי לפני חיבורים הוא חובה בהחלט. המזהמים שיש לנקות לפני החיבורים הם בעיקר תערובת של אבק, טביעות אצבעות וכו'. ניקוי זה אינו קשה, אך ישנן דרישות גבוהות מאוד לניקיון פני השטח של העדשה. שיטת הניקוי זהה לשני תהליכי הניקוי הקודמים.